兩條消息傳來，拜登也沒有料到，ASML總裁的預言或將成真

大家都知道，以目前的技術來看，光刻機仍然是芯片制造過程中不可或缺的設備，其重要性不言而喻。全球可以生產光刻機的廠商卻寥寥無幾，其中荷蘭ASML「一家獨大」基本上壟斷了高端市場，日本的尼康和佳能在中低端市場也有一定的地位，而我國的上海微電子只能生產90nm工藝的光刻機。

不可否認，相比于ASML的EUV光刻機，上海微電子生產的光刻機確實微不足道。但要知道，這可是在老美嚴密「技術封鎖」下的產物，其意義非常重大，至少證明中企也有實力完成自我救贖。

或許是因為看到我國半導體行業的進步，近期老美又制定了一項新的限制計劃，那就是拉上日、荷兩國達成不向中企出貨任何規格光刻機的協議，包括DUV光刻機。要知道，此前中企不能從ASML手中采購EUV光刻機，而現在連DUV光刻機也將受到限制。

盡管ASML總裁曾向美發出警告，對中國半導體出口限制只會加速中國研發出自己的技術。拜振華卻仍然一意孤行，為了遏制我國高科技的崛起，老美勢要把「封鎖」進行到底。對此，ASML總裁還預言，用不了多少年中國就能制造出能夠與ASML匹敵的光刻機設備。

然而，隨著兩條消息的傳來，似乎意味著ASML總裁的預言或將成真，同時也意味著拜登做夢也沒有料到的事情正在發生。

第一條消息：中企昆山同興達成功搬入首台上海微電子光刻機。據了解，同興達采購是由上海微電子自主研發的金凸塊封測光刻機，每台的價格高達1800萬元。

第二條消息：大族激光公開表示，公司生產的接近式光刻機已經投入市場，而步進式光刻機也啟動了用戶優化。據相關數據可知，這兩台光刻機的分辨率分別為800nm、2微米，前者可應用在5G基站的分立器件領域，后者則應用在LED等產品上。

以上兩條消息足以說明，中國半導體產業鏈并沒有在老美的制裁下喪失創新能力。雖然上海微電子和大族激光研發的光刻機不如ASML、尼康生產的先進，但是至少讓國人看到了國產高端光刻機的希望。

筆者認為，只要假以時日我們就可以制造出與ASML媲美的國產光刻機，原因也很簡單，因為國內半導體市場已經掌握了光刻機雙工作台、光源、物鏡系統三大核心部件的關鍵技術。

最主要的是，近幾年來國產光刻機不斷傳來捷報。比如北京國望光學的光刻曝光系統項目已經進入量產階段、華為發布了光刻機新專利、南大光電研發的ArF光刻膠正在穩步推進、華卓精科成功研發出光刻機的雙工作台，打破了ASML的壟斷、上海微電子28nm工藝國產光機也計劃在未來兩年落地商用。

當然，我們也承認中企光刻機廠商與世界光刻機巨頭之間有差距，而盲目的自吹只會讓我們失去斗志。所以，筆者希望，無論外界因素怎麼變化，我們都不能把希望寄托在別人身上，與其等待ASML、尼康正常出貨，還不如擼起袖子大干一場，打造出一條完全自主可控的國產光刻機供應鏈才能不再受制于人。對此，你們怎麼看？歡迎大家留言點贊分享。